| 光谱式测厚仪 |
| CN202311355363.2 2023-10-18 发明申请 |
| 2023-12-8 |
| 本发明公开了一种光谱式测厚仪，工作在厚度测量模式或形貌测量模式，该光谱式测厚仪包括：光源，用于产生入射光；分束单元，用于使入射光分束为样品入射光和参考光；第一遮光单元，能够移入或移出参考光的光路；光谱探测器以及计算机；在厚度测量模式，第一遮光单元移入参考光的光路以遮挡参考光，光谱探测器收集样品入射光入射至样品而在样品的表面产生的样品反射光，计算机根据样品反射光获取样品的厚度；在形貌测量模式，光谱探测器收集参考光与样品反射光相干形成的第一相干光，计算机根据第一相干光获取样品的形貌。本发明公开的光谱式测厚仪既可以测量样品的厚度，又可以测量样品的形貌。 |
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