用于监测半导体工艺的极高分辨率光谱仪
 
CN202310875008.1  2023-7-17  发明申请

2024-1-16
 
  本申请涉及一种用于监测半导体工艺的极高分辨率光谱仪。提供可用于监测半导体工艺的极高分辨率的光学仪器。在此应用空间中,极高分辨率可被认为是足以准许分辨个别分子转振发射线的分辨率。在一个实例中,提供一种光学仪器,其包含:(1)光学接口,其接收光纤;(2)窄带通滤波器,其滤出经由所述光纤接收的光信号的一部分;(3)光学组件,其被选择性地组合以处理未滤波光信号的至少一部分,其中所述光学组件包含接收所述未滤波光信号的传感器;以及(4)一或多个处理器,其处理来自所述传感器的电信号。所述光学仪器可为适合于工艺控制仪器的光谱仪。
 
仿站