辐射测量系统
 
JP2021544730  2020-1-27  发明申请

2022-4-21
 
  一种辐射测量系统(200),包括:光学设备(205),被配置为接收辐射束(210)并改变辐射束的强度分布以输出经调节的辐射束(215); 以及光谱仪(220),其可操作以接收所述经调节辐射束并确定所述经调节辐射束的光谱含量。 辐射测量系统可以形成光刻设备的一部分。
 
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