| 一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统 |
| CN202111480248.9 2021-12-6 发明申请 |
| 2022-4-12 |
| 本发明公开了一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统，包括：光学隔震台、244氩离子倍频紫外激光器、准直扩束镜、反射镜、转接板、X轴平移电动位移台、Y轴电动升降位移台、平凸球面透镜、待刻写载氢光纤、六维调整架、相位掩膜版、三轴可调的手动位移台、光纤夹具、Hi1060转大模场光纤的模场适配器、大模场光纤转Hi1060模场的适配器、三端口光纤环形器、宽带光源和光谱分析仪。本发明既可以满足大模场的高功率光纤光栅的刻写，又可以满足普通低功率的单模光纤光纤刻写；在电动位移台的配合下，达到良好的切趾效果，可实现近似于超高斯函数的切趾；由于其近似于超高斯切趾函数的切趾优势，也可以实现低反光纤光栅的反射谱平顶化的切趾效果。 |
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