| 蚀刻基板换液系统 |
| CN202310875739.6 2023-7-17 发明申请 |
| 2023-11-17 |
| 本发明涉及半导体制造技术领域，特别是一种蚀刻基板换液系统，包括液体供应系统和侦测模块，所述液体供液系统包括液体供液系统、液体检测系统和液体更新系统，所述侦测模块包括光源发射器、光谱接收器和侦测器。本发明与传统蚀刻基板终点控制方法相比，既能检测单次基板蚀刻作业蚀刻终点检测，也能通过检测异常报警反馈与流体检测系统检测蚀刻液浓度来获取蚀刻液新旧液更换周期时间，进而实现实时蚀刻液自动换液。 |
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