| X射线荧光光谱仪 |
| JP2021562654 2020-12-1 发明授权 |
| 2023-11-10 |
| 为了提供一种X射线荧光分析装置，其中散射X射线的影响不易出现在检测器的输出中，由诸如硅(Si)的光元素产生的X射线荧光的检测下限降低，并且因此可以精确地测量其浓度，提供一种用于分析液体样品(LS)的X射线荧光分析装置(100)，所述液体样品包含第一待测元素和具有比第一元素大的原子序数的第二元素，所述X射线荧光分析装置包括： X射线源(1)，其发射第一X射线； 次级靶(3)，其由第一X射线激发并产生第二X射线，所述次级靶(3)设置成使得第二X射线入射到液体样品(LS)上; 检测器(6)，用于检测由入射到液体样品(LS)上的第二X射线产生的X射线荧光; 浓度计算器(7)，其使用检测器(6)的输出作为基础来检测液体样品(LS)中的第一元素的浓度， 所述X射线荧光分析装置(100)被配置为使得作为第二X射线的照射光轴(LA)与液体样本(LS)的样本表面(SP)的交点的照射中心和作为检测器(6)的检测光轴(DA)与样本表面(SP)的交点的视场中心在样本表面(SP)中分离。 |
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