| 用于先进过程控制的集成扫描电子显微镜和光学分析技术 |
| WOUS19035962 2019-6-7 发明申请 |
| 2019-12-19 |
| 一种样品分析系统，包括扫描电子显微镜，光学和/或电子束检查系统和光学计量系统。 该系统还包括至少一个控制器。 所述控制器被配置为接收所述样品的第一多个所选择的感兴趣区域； 基于由扫描电子显微镜在所述第一选定感兴趣区域执行的第一检查来生成第一临界尺寸均匀性图； 基于所述第一临界尺寸均匀性图确定第二多个所选择的感兴趣区域； 基于由所述光学和/或电子束检查系统在所述第二选定感兴趣区域执行的第二检查来生成第二临界尺寸均匀性图； 以及基于所述光学计量系统在所述样品上执行的检查结果和覆盖测量来确定一个或多个过程工具控制参数。 |
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