方法和坐标测量机
 
EP22153544  2022-1-26  发明申请

2023-8-2
 
  程序,具有程序步骤:-在坐标测量机(10)上提供构件(14),其中,所述坐标测量机(10)具有光学测量系统(16)并且其中,所述光学测量系统(16)的可用测量范围(20)由所述光学测量系统(16)的光源(24)的不均匀光谱(22)指定; -使用小于所述可用测量范围的减小的测量范围(34)测量待测量的构件(14)的几何特征。
 
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