| X射线荧光分析仪和X射线荧光分析方法 |
| JP2021170794 2021-10-19 发明申请 |
| 2023-5-1 |
| 所要解决的问题是提供一种X射线荧光分析装置和X射线荧光分析方法，该X射线荧光分析装置和X射线荧光分析方法通过根据由样品台上的样品的翘曲引起的高度或测量面的倾斜程度的变化来移动样品台，从而不校正高度或倾斜而校正测量时间来进行X射线分析，从而能够获得高精度的分析结果和高精度的X射线强度。 解决方案：X射线荧光分析方法包括：通过三维测量机构6获得样品S的表面的高度H和倾斜角； 从测量时间和标准照射位置的高度与由三维测量机构测量的高度或倾斜角之间的差之间的相关性导出校正照射时间； 用来自X射线源的X射线照射所述样品； 以及基于校正的照射时间由X射线检测器3检测X射线荧光，以由分析器4分析X射线荧光。 选图：图1版权：(C)2023, JPO&INPIT |
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