| 一种将可调谐深紫外激光源与近常压光发射电子显微镜联合的成像系统及方法 |
| CN201810431544.1 2018-5-8 发明申请 |
| 2019-11-15 |
| 本发明涉及一种能够在保持高气氛压力的同时有效加载高电场的方法，并将此应用于光发射电子显微镜(PEEM)系统中，实现接近常压气氛条件下的PEEM成像；同时采用可调谐深紫外激光源作为激发光源，提高了PEEM的空间分辨率与应用领域。通过分级电子加速的电子光路系统和气体压力的差抽系统，实现近常压气氛下PEEM成像，达到100nm的空间分辨。在样品和物镜之间添加的锥形管，既是一级电压的施加位置，也实现了气体压力的一级差抽；设计的气氛腔室，包含了光源引入，气体的引入/抽空，腔室的密封等功能，使得锥形管和样品之间为近常压环境。通过气氛腔室与传统PEEM设备，以及可调谐深紫外激光源的联合，实现在接近真实工作条件下对表面纳米结构进行原位、动态的表面成像研究。 |
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