产业专利数据
 
用于晶圆检验之高解析度多光谱多视场成像系统
 
TW111134304  2022-9-12  发明申请
2023-3-16
 
  一种光学系统及设计可使在紫外光()及可见光谱中的受检验物件成像。此成像可用以在单次通过中侦测可见光谱中的大缺陷及光谱中的小缺陷两者同时减少检验过程的时间及成本。光学系统可包括用于像差校正的离轴反射聚焦系统其中分光器用以分离可见光谱与波长。摄影机可接著使可见光及波长成像。; ()-
 
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