靶材、高亮度EUV源及13.5nm辐射产生方法
 
RU2022100914  2022-1-17  发明授权

2023-2-1
 
  领域:含Li靶材。 发明内容:本发明涉及一种含Li靶材料,其被设计成在高亮度光源中产生发射等离子体,并在13.5nm波长处产生极紫外(EUV)区域中的辐射。 使用具有附加元素的共晶Li合金作为靶材料,这允许靶材料密度以90%至60%的原子分数增加Li的许多倍。 所述附加元素选自包括Au、Ag、Bi、Ba、Sr的组。所述靶材料用于具有快速旋转靶(至少100m/s)的基于激光等离子体的EUV源中,其中污染物液滴部分不被引导到激光和EUV束路径的空间区域中。 效果:由于污染颗粒的液滴部分的速度急剧降低,并且由于高目标速度,能够控制其离开含Li等离子体的方向,因此将具有高光谱亮度的紧凑清洁辐射源的应用范围扩大13.5nm。 16 cl, 7 dwg
 
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