| 共焦成像系统 |
| CN202211010040.5 2022-8-22 发明申请 |
| 2022-12-13 |
| 本发明的一种共焦成像系统，通过将第一光源和第二光源、第一光学组件和第二光学组件及第一处理组件和第二处理组件相对应的对称设置，以第一光源、第一光学组件、待测物发射面、第二光学组件和第一处理组件为第一光路，以第二光源、第二光学组件、待测物发射面、第一光学组件和第二处理组件为第二光路，有效地增加了光谱覆盖待测物的面积，从而使得测试范围增大，避免了单光路为增加覆盖面积而牺牲测量精度的问题，也即有效地保证了测量精度，实现了同一系统的超宽光谱高灵敏的探测，降低了生产成本，而第一处理组件和第二处理组件能够根据接收到的待测物的反射光光谱得到待测物的位置信息、材料信息等，测量速度快，精度高，稳定性高。 |
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