| 用以结合光学量测与质量量测之系统及方法 |
| TW107130808 2018-9-3 发明申请 |
| 2019-7-16 |
| 一种用於基板处理的量测系统，包括光学量测站，其包括多个光学感测器以量测基板上的多个量测位置的光谱多个光缆连接到多个光学感测器光谱仪选择性地连接到多个光缆质量量测站量测基板的质量或质量变化其中至少一者控制器包括模型化模组，其基於多个量测位置的光谱和学习模型，产生多个量测位置的厚度值空间模型化模组基於来自模型化模组的多个量测位置的厚度值以及来自质量量测站的质量或质量变化其中至少一者以产生用於基板的空间厚度分布模型 |
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