| 聚焦和聚焦机构，聚焦操作程序以及光学显微镜 |
| JP2018067173 2018-3-30 发明申请 |
| 2019-10-17 |
| [问题]即使在对焦对象物的表面的多个点的每一个适当地执行对焦操作时，对象物表面也不均匀。 [解决方案]对于多个焦点检测反射光强度中的反射光的反射光照射强度中的每一个，对物体上的多个点进行计算，并且计算物镜和物镜的反射光照射强度中的平均值的平均值。 检测极值中的物体9的相对位置关系作为基准深度ON， 物镜11在物镜11的光轴L方向上的焦点位置在预定范围内，该预定范围包括物体9上的多个点的参考深度，同时改变多个点中的每一个的驱动系统40。 基于焦平面的位置，针对多个点的反射光强度中的每个点执行焦点检测反射光照射。 图1[附图] |
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