| X射线分析装置 |
| JP2018161218 2018-8-30 发明授权 |
| 2022-10-25 |
| 为了提供一种在视觉搜索工作中能够支持设定测量条件的X射线分析仪，解决方案：EPMA100包括偏转线圈2、样品台4、分光计6a、6b； 以及控制单元10。 控制部10基于由分光器6a、6b检测出的特性X射线，对分析对象区域进行分析。 控制单元10使用预先准备的X射线强度-扫描速率表，基于由光谱仪6a和6b检测到的特征X射线的强度来确定电子束E的扫描速率，所述X射线强度-扫描速率表示出了从用电子束E照射的样品S产生的特征X射线的强度与使分析目标区域的分析成为可能的电子束E的扫描速率之间的关系。所选附图：图1 |
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