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产业专利数据

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2 动物模型与化药新药专利
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用于等离子体蚀刻中的终点检测的合成波长

US16548333 2019-8-22 发明授权

2021-2-2

描述了一种使用光学发射光谱(OES)数据作为输入来确定蚀刻工艺的终点的方法。 OES数据由等离子体蚀刻处理室中的光谱仪采集。首先对所获取的时间演化谱数据进行滤波和去均值，然后使用诸如主成分分析的多变量分析将其变换为变换谱数据或趋势，其中使用先前计算的主成分权重来完成该变换。将主分量权重分成对应于正和负自然波长的两个分开的组，产生分开的带符号趋势(合成波长)。