| 衬底抛光装置和衬底抛光方法 |
| US17700816 2022-3-22 发明申请 |
| 2022-9-29 |
| 本发明公开了一种基板研磨装置，其能够在测量被研磨基板的膜厚时以高精度测量基板的膜厚而不降低光的透射率。 该衬底抛光装置包括：台； 配置成保持抛光垫的抛光头； 抛光液供应喷嘴； 膜厚测量头； 光谱分析仪； 以及头喷嘴，所述膜厚测量头安装在所述头喷嘴上。 所述头喷嘴包括第一流道系统和第二流道系统，每个流道系统被配置成形成穿过光和反射光的光路的液体流， 第一流道系统具有位于光路上的开口，第二流道系统具有位于开口两侧的液体出口和液体吸入口。 |
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