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使用扫描电子显微镜度量的缺陷检测，分类和过程窗口控制

WOUS19020629 2019-3-5 发明申请

2019-9-19

可以基于图像中的像素将半导体晶片的图像中的缺陷分类为初始缺陷类型。可以从电子数据存储单元检索与缺陷类型相关联的关键尺寸均匀性参数。缺陷的缺陷程度可以基于临界尺寸均匀性参数来量化。缺陷也可以基于关键尺寸属性，形貌属性或对比度属性来分类，以确定最终缺陷类型。