| 紫外宽光谱无掩膜光刻成像系统以及光刻机 |
| CN202110505623.4 2021-5-10 发明申请 |
| 2021-8-6 |
| 本发明公开了一种紫外宽光谱无掩膜光刻成像系统以及光刻机，紫外宽光谱无掩膜光刻成像系统包括：第一镜头组件、光阑以及第二镜头组件，第一镜头组件的焦距为f1，第二镜头组件的焦距为f2，紫外宽光谱无掩膜光刻成像系统的焦距为f，紫外宽光谱无掩膜光刻成像系统满足关系式：0.05≤f1/f≤0.09，0.21≤f2/f≤0.41；第一透镜到第十二透镜沿光轴从物侧到像侧依次设置，且第一透镜到第十二透镜均为单透镜。根据本发明的紫外宽光谱无掩膜光刻成像系统，可采用更宽波段的光源，并以较少数量的透镜，实现了高成像质量、大焦深和高透过率设计，不采用胶合透镜，使得光学成像系统更稳定性，不仅降低了光刻成本，而且光刻设备具有更高的运行稳定性。 |
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