| 基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅 |
| CN202011221276.4 2020-11-3 发明申请 |
| 2022-5-6 |
| 本发明公开了一种基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅，该光栅的基底是石英，第一层材料为MgF2，深度为h1，第二层材料为石英，深度为h2。该光栅的周期d为706～727纳米，脊宽b为396～418纳米，倾斜角θ为18～19度，h1为452～504纳米，h2为691～743纳米，在正入射的情况下该光栅结构具有454～630纳米的波长带宽。本发明是一种适用于RGB三基色(中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米)的高效率偏振无关斜双层光栅，由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，其取材方便，结构简单，容差大，造价小，能大批量生产，可应用于AR、VR等三维成像显示技术。 |
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