| 基于光谱型椭偏仪的线宽标准样片量值确定方法 |
| CN202010449981.3 2020-5-25 发明申请 |
| 2020-9-1 |
| 本发明提供了一种基于光谱型椭偏仪的线宽标准样片量值确定方法，属于微纳米测量仪器计量技术领域，包括选取系列量值的纳米级线宽标准样片对光谱型椭偏仪进行校准，实现椭偏仪入射角、光源波长及椭圆偏振角的修正，确保光谱型椭偏仪的量值准确可靠；采用陪片法建立基于多层膜沉积工艺的椭圆偏振测量模型；使用修正后的光谱型椭偏仪对多层膜沉积工艺沉积的薄膜厚度进行测量并给出测量结果及测量不确定度。本发明提供的基于光谱型椭偏仪的线宽标准样片量值确定方法，是基于多层膜沉积技术制备的线宽标准样片，在介质薄膜沉积工艺过程中，采用光谱型椭偏仪测量薄膜的厚量值，作为最终线宽标准样片的线宽量值，实现线宽量值的准确测量和确定。 |
微信公众号