| 一种片上光源调制系统 |
| CN202122182753.7 2021-9-9 实用新型 |
| 2022-3-4 |
| 本实用新型公开了一种片上光源调制系统，包括：硅基底、二氧化硅埋氧层和氮化硅层，氮化硅层包括依次设置的第一波导至第四波导，第一波导和第二波导之间设置有微环谐振腔，且微环谐振腔与第一波导之间的间距为第一设定距离，微环谐振腔与第二波导之间的间距为第二设定距离；第二波导与第三波导之间设置有微环滤波器，微环滤波器与第二波导之间的间距为第三设定距离，微环滤波器与第三波导之间的间距为第四设定距离；第三波导与第四波导之间设置有微环调制器，微环调制器与第三波导之间的间距为第五设定距离，微环调制器与第四波导之间的间距为第六设定距离。本系统利用三个氮化硅微环结构对输入的光源进行处理，可以产生自由光谱范围更宽的光频梳。 |
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