| 用于等离子体蚀刻中的终点检测的合成波长 |
| SG11202200577T 2020-8-18 发明申请 |
| 2022-2-25 |
| 描述了一种用于使用发射光谱(OES)数据作为输入来确定蚀刻工艺的终点的方法。 OES数据由等离子体蚀刻处理室中的光谱仪获取。 首先对所获取的随时间变化的光谱数据进行滤波和去均值，并且此后使用诸如主成分分析的多变量分析将其变换成变换的光谱数据或趋势，其中使用先前计算的主成分权重来完成变换。 将主成分权重分组为对应于正和负自然波长的两个单独的组，创建了单独的有符号趋势(合成波长)。 |
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