| 具有抑制非线性效应功能的光纤光栅精密刻写系统及方法 |
| CN202111287408.8 2021-11-2 发明申请 |
| 2022-2-8 |
| 本发明公开了一种具有抑制非线性效应功能的光纤光栅精密刻写系统及方法，针对现有光纤光栅刻写方法无法在线精密测量与控制刻写参数导致的光纤光栅刻写效率低、精度低、自动化水平低的问题，提出了一种兼具短周期与长周期光纤光栅刻写模式的高效精密智能刻写系统及方法。在光栅刻写之前，能够结合自准直仪、光谱仪与电控多维组合台实现光纤水平度的高精度标定与调整，能够快速切换刻写模式；在光栅刻写过程中，计算机能够根据测得的刻写参数智能调节电控旋转台转动紫外反射镜、调节电控多维组合台高度优化刻写参数。与现有方法相比，本发明提出的方法能够保障刻写的光纤光栅的光学性能，提升光纤光栅刻写的智能化水平与批量生产效率。 |
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