具有高折射率材料的多莫尔结构照明显微镜
 
US16318500  2017-7-18  发明申请

2019-7-25
 
  一种系统,包括 : 一种电介质,其被配置为 : a)在不同入射角的两对反向传播光束照射下产生两个驻波正弦波的双周期干涉图案, 其中入射角是根据电介质的折射率i)选择的,以确定每个反向传播光波对的空间频率, 和ii)引起全内反射,和b)从双周期干涉图案产生消失的双周期驻波正弦波; 光源,被配置为以所选择的入射角用所述两对反向传播的正弦波照射所述电介质,从而用所生成的双周期渐逝驻波照射位于所述电介质表面的荧光物体; 以及一个或多个延迟线,被配置为独立地修改每个反向传播光波对的初始相位。
 
仿站