| 基于分光镜的辐射源跟踪方法及系统 |
| KR1020190133353 2019-10-25 发明授权 |
| 2021-8-31 |
| 更具体地，本发明涉及一种用于基于光谱仪的辐射源的位置跟踪的方法和系统，以便通过三维跟踪辐射源的位置来提高精度。 本发明提供了一种用于基于光谱仪定位辐射源的方法，其中多个光谱仪相对于待测量辐射源设置或对准。 辐射量检测步骤，用于检测通过设置在分光定向步骤中的每个分光计的辐射量。 辐射源位置计算单元，其基于通过辐射剂量检测步骤检测到的辐射量来计算辐射源的位置。 本发明的特征在于它包括。 |
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