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包含具有曲面的等离子体连续膜的基板及其制造方法

KR1020190085971 2019-7-16 发明申请

2021-1-26

本发明涉及一种包括具有曲面的等离子体激元连续薄膜的衬底及其制造方法。更具体地说，它在纳米凹坑和等离子曲面纳米凹坑之间的接触点处形成等离子纳米凹坑，并且同时形成纳米尖端。本发明涉及一种用于超高灵敏度光谱仪的基底及其制造方法，其能够大大增加热点的总体积，并且能够浓缩和分析痕量样品。