| 基于漫反射原理的成像光谱拍摄暗箱 |
| CN202020184917.2 2020-2-19 实用新型 |
| 2020-12-15 |
| 本实用新型公开了基于漫反射原理的成像光谱拍摄暗箱，涉及拍摄装置技术领域，达到了使处于暗箱内的样品接受均匀光照，光谱图片中不存在光斑的目的。本实用新型的主要技术方案为：基于漫反射原理的成像光谱拍摄暗箱，包括：壳体，包括上下层，下层内壁中喷涂漫反射材料以降低光线损耗；照明设备，包括散热器、支架、卤素灯和漫射板，所述卤素灯发出的光垂直照在漫射板上进入在壳体内部；仪器托架，包括挡光板、固定柱和垫圈，成像光谱仪固定于所述固定柱上，将镜头探入拍摄孔进行拍摄。本实用新型主要用于拍摄时样品受光均匀、隔热、密封。 |
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