ICP光谱仪用废气处理系统
 
CN202022094133.3  2020-9-23  实用新型

2020-11-24
 
  本实用新型涉及一种ICP光谱仪用废气处理系统,设置于ICP光谱仪的排气口,在所述的排气口处设置用于保证排气口处温度的恒温室,在所述的恒温室上设置废气处理室,在所述的恒温室内设置若干降温模块以及若干温度传感器,所述的废气处理系统包括一控制处理端,所述的温度传感器检测到恒温室的温度并将该温度信号传输至控制处理端进行处理,控制处理端处理后并输出控制信号至降温模块对恒温室温度进行调节。采用了上述系统之后,通过恒温室及相应的控制设置能够保证排气口处的温度一直恒定,能够有效减少因为温度过高造成对仪器精度的影响;通过废气处理室的设置能够对排出的废气进行净化,提高室内环境质量。
 
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