产业专利数据
 
一种投影物镜和光刻曝光系统
 
CN201810113896.2  2018-2-5  发明申请
2019-8-13
 
  本发明公开了一种投影物镜和光刻曝光系统。该投影物镜包括沿光路依次设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，第一透镜组包括沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组，第三透镜组包括沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组，投影物镜满足以下关系式：0.3
 
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