| 一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅 |
| CN201911249960.0 2019-12-9 发明申请 |
| 2020-3-27 |
| 本发明公开了一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅。本发明的宽光谱抗反射增透结构中包括：衬底，还包括设置于所述衬底至少一侧表面的若干锥状抗反射结构，锥状抗反射结构的底部横向尺寸为20～150nm，分布密度为3～20根/um2，若干锥状抗反射结构在不同高度范围内的数量百分比分布为：100nm以下 : 0％～5％，100nm～150nm : 50％～60％，150nm～200nm : 25％～35％，200nm～260nm : 10％～20％。本发明产品在更宽的波长范围内具有更优异的抗反射性能。 |
微信公众号