| 光谱仪二次参考校准 |
| US16035105 2018-7-13 发明申请 |
| 2018-11-29 |
| 描述了光谱仪二次参考校准的各个方面。 在一个实施例中，执行用于评估光谱学中校准的一方面的诊断测量。 分析诊断测量的结果以确定与预期结果的偏差。 在分析的基础上，针对误差，提出了一种校正算法。 在一些实施例中，还执行产品模型诊断测量以进一步评估校准方面。 分析产品模型诊断测量的结果以确定产品模型与产品模型诊断测量的预期结果的偏差，如果需要，应用产品模型校正算法。 根据这里描述的实施例的方面，使用二次参考标准允许校准参数的重构，而不需要主仪器或其他形式的校准参考仪器。 |
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