| 一种低辐射复合薄膜的性能研究方法 |
| CN201911258446.3 2019-12-10 发明申请 |
| 2020-3-24 |
| 本发明公开了一种低辐射复合薄膜的性能研究方法，包括以下步骤：S1：光学性能测试 : 利用Lambda950型紫外/可见/红外光谱仪测定薄膜的近红外透过率；S2：可见光光学性能测试；S3：方块电阻的测试 : 用双电测四探针测试仪检测银膜的方块电阻；S4：显微硬度测试 : 显微硬度计对薄膜进行硬度测试；S5：薄膜厚度测试 : 采用多波长型椭圆偏振仪进行单晶硅基片上氮化锆薄膜的椭偏光谱测量；S6：低辐射薄膜的耐湿实验；S7：镀膜样品的理化性能测试。本发明主要针对一种低辐射复合薄膜的性能研究方法，本发明方便使用者后期对照片进行对比和观察，能够对知晓项目的短板，从而能够使工作人员明确薄膜的后续研究和发展。 |
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