| 一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统 |
| CN201810432051.X 2018-5-8 发明申请 |
| 2019-11-15 |
| 本发明涉及光学图像信息采集技术领域，具体为一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统，包括扫描光源、第一偏振调制模块、第二偏振调制模块、图像获取装置、第一准直透镜、第一成像镜、第二准直透镜、第二成像镜，所述第一偏振调制模块包括第一萨瓦偏光镜和第二萨瓦偏光镜、起偏器和半坡片，所述第二偏振调制模块包括第三萨瓦偏光镜和第四萨瓦偏光镜、检偏器和半坡片。本发明与目前传统的穆勒矩阵测偏系统相比，不受外部环境因素影响，精准度更高，可一次性获取目标的谱信息、强度图像和穆勒矩阵图像，可提供目标物体的形影、组织结构、介电常数、含水量等信息。 |
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