| 一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置 |
| CN201820898348.0 2018-6-11 实用新型 |
| 2019-5-14 |
| 本实用新型公开了一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置，所述气体控制装置包括：等离子气控制系统，所述等离子气控制系统直接设置在等离子气体的输气管路上；辅助气控制系统，所述辅助气控制系统直接设置在辅助气体的输气管路上；雾化气控制系统，所述雾化器控制系统直接设置在雾化气体的输气管路上；控制器，所述控制器分别与等离子气控制系统、辅助气控制系统和雾化气控制系统控制连接。本实用新型结构简单、操作方便、工作稳定有效，可实现单气体输入和流量等的自动控制。 |
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