| 识别产品制造过程中的工艺变化 |
| SG11201906423Y 2018-2-7 发明申请 |
| 2019-8-27 |
| R控制器140150141130聚焦检测器031-1偏振器环孔径场光阑143分析单元100-N0。 153110105照相机151光谱仪127127123128124大于7136137135晶片103图。 ′IA1044至成像系统(图1)。 1B)1-100(12)根据专利合作协议(PCT)(19)国际知识产权组织国际局(43)国际公布日期2018年8月6日(16.08，2018)公开的国际申请WIP01PCT ILL 专利分类 : H01L21/02(2006.01)Holl21/67(2006.01)(21)国际申请号 : PCT/US2018/017273(22)国际申请日 : 2018年2月7日(07.02.2018)(25)归档语言 : 英文(26)出版语言 : 英文(30)优先权数据 : 2002/4577812017年2月10日(10.02.207)US2002/591088207(27.11.207)US(71)申请人 : KLA-Tencor Corporation[US/US]； 法律部门，一种技术驱动，Milpitas，Cali-Fornia95035(US)。 (72)发明人 : Grunzweig，Tzashi； 203NE55Avenue，Hillsboro，Oregon97124(US)。 Gutman，NADAV； 11Dror单元12, 3091784Zichron Ya'agov(IL)。 Staniu-NAS，Claire E。； 2461Falls Street，Forest Grove，Ore-Gon97116(US)。 Marciano，Tal； Yaar ODEM32/10，2069200Yokneam(IL)。 Shuall，Nimrod； 10773SW Heron Circuit，Beaverton，Oregon97007(US)。 (74)试剂 : McAndrews，Kevin等； KLA-Tencor Corporation，Legal Deposition，One Technology DRI-VE，Milpitas，California95035(US)。 (81)指定状态(除非另有说明， 对于每种可用的国家保护) : AE， Ag， Al， AM， AO， AT， Au， AZ， BA， BB， BG， BH， BN， Br， BW， 通过， BZ， CA， CH， Cl， CN， CO， Cr， 铜， CZ， DE， DJ， DK， DM， DO， DZ， EC， EE， 例如， ES， FI， GB， GD， 锗， GH， GM， GT， HN， HR， 胡， ID， IL， 在， IR， Is，Jo，Jp，Ke，Kg，Kh，Kn，Kp，Kr，Kw，Kz，La，Lc，Lk，Lr，Ls，Lu，Ly，Ma，Md，Me，(54)标题 : 在产品制造期间识别工艺变化(57) : 提出了用于在诸如半导体晶片的产品制造期间识别工艺变化的系统和方法。 在第一产品制造期间的预定阶段，使用至少一个成像参数的不同值来获得第一产品的区域的图像。 然后分析图像以产生用于所述第一产品的第一对比度签名，该第一对比度签名指示与所述至少一个成像参数的对比度的变化。 在第二产品制造期间的同一预定阶段，使用所述至少一个成像参数的不同值来获得对应于所述第一产品的所述区域的所述第二产品的区域的图像。 对图像进行分析以产生用于所述第二产品的第二对比度签名，该第二对比度签名指示与所述至少一个成像参数的对比度变化。 比较第一和第二对比特征以识别在所述第一和第二产品的制造之间是否发生了工艺变化。 [在下一页继续]WO20/148318AL Midedimomoideireemoihimmiommoimen MG， MK， Mn，Mw，Mx，My，Mz，Na，Ng，Ni，NO，Nz，Om，Pa，Pe，Pg，Ph，Pl，Pt，Qa，Ro，Rs，Ru，Rw，Sa，Sc，Sd，Se，Sg，Sk，Sl，Sm，St，Sv，Sy，Th，Tj，Tm，Tn，Tr，Tt，Tz，Ua，Ug，US，Uz，Vc，Vn，Za，Zm，Zw。 (84)指定状态(除非另有说明， 对于每种可用的区域保护) : ARIPO(BW， GH， GM， KE， LR， LS， Mw， MZ， Na， RW， SD， SL， ST， SZ， TZ， UG， ZM， Zw)， 欧式(Am， AZ， 通过， 千克， Kz， Ru， Tj， TM)， 欧洲(Al， AT， BE， BG， CH， CY， CZ， DE， DK，EE，ES，FI，FR，GB，GR，HR，HU，IE，IS，IT，LT，LU，LV，MC，MK，MT，NL，NO，PL，PT，RO，RS，SE，Si，SK，SM，TR)，OAPI(BF，BJ，CF，CG，CI，CM，GA，GN，GQ，GW，KM，ML，MR，NE，SN，TD，TG)。 公开 : -带有国际搜索报告(第21(3)条) |
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