一种半导体材料放大光纤
 
CN201711225066.0  2017-11-29  发明申请

2019-6-4
 
  本发明公开了一种半导体材料放大光纤,本发明纳米半导体薄膜内包层光纤结构, 考虑半导体材料能带结构特性, 实现新型结构光纤, 并采用改进的化学气相沉积法, 在相应实验设备条件下制备出50m纳米半导体薄膜包层光纤;通过对光纤掺杂半导体材料的特性分析, 从纳米材料的制备、光纤拉制的过程等方面, 探讨并制成了掺纳米半导体InP材料放大光纤通过等离子发射光谱仪和扫描电镜, 对制备出的新型结构光纤进行掺杂浓度测试和微观结构观察;由测试系统得到制备光纤的光放大增益曲线和超连续谱, 获得光纤的放大增益。
 
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