| 捕获方法和补偿环境中测量显微镜 |
| US16026364 2018-7-3 发明申请 |
| 2019-1-10 |
| 本发明涉及一种捕获方法和补偿环境条件的影响，成像比例(s)上在测量显微镜。这里，一种在测量显微镜的光学性质修改的环境条件的变化引起用基准测量系统测量，特别是标准具，和，在同一时间，一种与至少一个参考图像的参考结构的长度(L0)，其设置在所述校准掩模通过使用产生的测量显微镜和探测器的改变(ΔL)的参考长度(L0)其在环境条件变化造成的图像中确定所述基准结构。随后，一种改性之间建立了关联的参考测量系统的光学特性和长度的变化，图像(ΔL)中，所述检测器中产生，所述校准掩模的参考结构。该相关性可以被用来进行计算的画面的尺寸适配元件的检测器环境条件的影响，从而补偿在(s)的测量显微镜的成像比例。 |
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