| 气体分析装置，气体分析装置的程序及气体分析方法 |
| WOJP18015803 2018-4-17 发明申请 |
| 2019-1-17 |
| 为了即使在样品气体中含有高沸点化合物的情况下也能够准确地计算待测组分的浓度， 本发明的气体分析装置100， 其用于使用通过用光照射样品气体而获得的光谱来分析样品气体中包含的待测组分， 具有 : 校准曲线数据存储部(21)，其存储对高沸点化合物的待测成分的浓度的影响进行了校正的第一校准曲线数据，所述高沸点化合物的沸点高于将引入样品气体的光谱仪的加热温度；以及浓度计算部(22)，其使用第一校准曲线数据来计算待测成分的浓度。 |
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