| 用于校准所述光学信号的系统和方法在半导体处理系统 |
| JP2017218556 2017-11-13 发明申请 |
| 2018-6-14 |
| [A]相关的处理室的检定装置，特性评价系统，腔室特性评价装置和方法。[技术方案]该光学校准装置，包括，(1)一个壳体，(2)放置在壳体内，具有连续谱光源被配置成提供光源，壳体(3)放置，光源，等离子体处理室的操作期间使所述变形元件的变形接近校正包括发射光。特性评价系统，(1)布置在等离子体处理室，其具有光学取景器端口校准装置，(2)耦合到所述观察口，观察口光学系统设置成接收光源发出的光校准系统校准，和，(3)光学地耦合到光学装置的光学系统通过标定，数据报告包括所述光谱仪测得的光信号。图[图1] |
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