| 测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的设备 |
| CN201720911904.9 2017-7-26 实用新型 |
| 2018-6-12 |
| 本实用新型公开了一种测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的设备。主要包括以下模块：数据采集分析模块，其功能有LIBS?LIF光谱数据采集；分析光谱数据判断沉积膜厚度；时序控制模块，其功能有控制两个激光器时序；时序控制示波器数据采集；时序调控LIBS?LIF发射光谱模块采集。LIBS?LIF双激光，其功能为产生并增强激光等离子体发射；烧蚀激光能量调控模块，其功能为在光斑能量空间分布保持不变的情况下调控烧蚀激光能量；烧蚀激光能量测量模块；激光能量探头；真空等离子体喷涂或真空离子镀沉积膜；基底材料；激光等离子体光谱收集模块；门宽可调控的ICCD光谱仪。 |
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