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结构光显微镜系统,方法和程序
JP2017522754 2015-6-8 发明申请
2018-2-22
用于高性能深度观察,结构化照明系统说明了本发明,激发光激发荧光物质中所含的样品,样品的干涉条纹照射和照明光学系统,干涉条纹的方向,空间频率的相位控制部分,干涉条纹照射该调制样值形成成像光学系统,其中所述成像光学系统形成的图像的成像元件上,所述多个拍摄的图像的成像装置使用的解调器及解调处理,该结构光显微镜系统,控制单元可以,根据干涉条纹照射的位置,该干涉条纹的空间频率。
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