| X-射线微分析仪分析方法。 |
| JP63035688 1988-2-17 发明授权 |
| 1996-9-18 |
| 目的 : 得到准确的分析结果，通过计算X射线强度比为相同元件根据 X射线强度的至少两个频谱特定的X射线例如使用Cu-Kα射线， Kβ射线，和Lα-Lβ射线，并将该计算结果与预先设定的公差值，确定所述差。 构成 : 在分析样品的10， X射线强度的至少两个特定特定的X射线的X射线通过X-射线可分离 光谱仪12a和12b， 如使用Cu-Kα射线， Kβ射线， 和MIP-1α射线作为到相同的元件测得的测量装置14， 和X射线强度率的计算，在强度计算装置根据得到的X-射线强度。 计算结果输送到判定装置18， 相对于预定公差值， 和在所述强度率超过公差值，判断信号至显示输出。 因此， 根据判决信号， 它能决定可靠地是否X射线强度可转换成密度为或 。一种可恒定地获得准确的分析结果，因此。 |
微信公众号