| 多道显微镜检查 |
| US15454322 2017-3-9 发明申请 |
| 2017-9-14 |
| 一种测量系统，包括聚焦光源、第一反射镜、多个第一透镜、第二反射镜、多个第二透镜和成像装置。 第一反射镜被定位在样品的第一侧上，并且被配置为接收来自光源的光。 多个第一透镜位于第一反射镜和样品之间。 第二反射镜位于样品的第二侧。 多个第二透镜位于第二反射镜和样品之间。 成像装置被定位成邻近第二反射镜，并且被配置成在光在第一反射镜和第二反射镜之间传播多个传播之后接收来自光源的光，并且通过第一透镜和第二透镜。 |
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