| 通过高频率等离子体装置，用于分析微量元件 |
| JP63307817 1988-12-7 发明申请 |
| 1990-6-13 |
| 目的 : 使具有高灵敏度分析不通电的样品通过对所述样品表面以一溅射分析通过使用由高频率等离子体所产生的离子。结构 : 一种离子源部分由阴极50的，所述样品中的60紧密接触与该阴极50，一个接地阳极100，和一个离子抽取电极101。高频电力施加到所述阴极50从高频电源10通过一个匹配箱20和阻塞电容器30。该等离子体是当一个放电区90中产生一个用于产生等离子体的气体110被引入在一真空容器40。所述的Ar离子被在这个时间以轰击产生的所述样品60，从而溅射所述样品60。所述通过反应溅射离子化的样品材料是与所述等离子体和所述离子被引入到一分析室240。所述离子化的材料被引入到一透镜系统120，然后分析是通过一种能量分析器160。所述材料是质量-由一质量光谱仪180和被检测的分析通过一个离子检测器200。该结果被记录在记录器220。 |
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