| 离子束装置 |
| JP60076535 1985-4-12 发明申请 |
| 1986-10-22 |
| 目的 : 离子到相同的，以使不同类型的照射点相同的条件下，通过提供多个离子源不同的类型和切换它们。结构 : 假设磷和砷被注入到晶片上相同的点1，以形成一个双漏极结构，磷离子束投射从第一离子源11是通过质量光谱仪15照射到所述晶片1因此，以注入磷离子18为特定部分17不施加与掩模16。然后从第二离子的砷离子束被投射源12和偏转通过一偏转器14从其中它是LED与所述质量光谱仪15和照射到所述晶片1因此以注入砷离子19，以该部分具有无掩模16。由于该离子束装置10的方向被保持恒定，所述磷和砷被注入到相同的点相同的条件下。 |
微信公众号