| 离子注入装置 |
| JP57155919 1982-9-9 发明申请 |
| 1984-3-16 |
| 目的 : 以避免任何产生有缺陷的商品，其可以通过mistakingly选择的种类引起的离子通过提供一装置测量的发射质量光谱仪和一离子注入室之间的显影。结构 : 一种离子束2引出后，从离子源1是分割根据所述无线电质量和所述的电荷通过所述的装置之间的一个磁场的磁场质量光谱仪3，只有那些束其通过一个质量-分离中的狭缝4所述分割之前进入一注入腔室5的光束被照射在一晶片6安装在所述注入腔室5。这种装置是提供具有一测量的发射质量光谱仪3之间的显影装置和所述注入室5，如观看排出端口7，它将光从所述离子束和一光谱仪8。作为结果，在进行注入的P+离子例如，任何mistakingly选择一个不同的可能性束可以通过确认所述类型的离子通过设置防止该光谱仪8以一线特有的P+离子。 |
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