| 监视器装置，用于等离子体 |
| JP57118527 1982-7-9 发明申请 |
| 1984-1-19 |
| 目的 : 以得到一均匀的薄-膜在所有时间通过利用一个事实，即之间的相对关系存在一个一个光-发射的发光强度比化学种类和一种离子种类的化学种类和质量所述的薄-膜和所述的形成期间测量所述的发光强度比所述膜。结构 : 一等离子体CVD装置11中产生的等离子体发光15被传送通过一用于测光窗口14通过一透镜16和冷凝，和投影到一光谱仪17和每个波长处的衍射光谱。等离子体的发光光谱通过狭缝28，28‘形成于该光谱仪17被引入到光电倍增管18，18’; 和输出从所述管是每个存储到存储器24，25通过专用放大器21，21‘和AD转换器22，22‘。一等离子体的发光光谱强度比这两个输出是由一种算术单元26计算，和所述结果是通过一显示单元27同时显示被存储到它。因此，该流动速率和N2气体的压力和高频率的响应中施加的电压被反馈到一发光强度的变化，和所获得的是在所希望的厚度均匀的薄-膜。 |
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