| 狭缝装置在质量光谱仪 |
| JP52116736 1977-9-30 发明申请 |
| 1979-4-23 |
| 目的 : 以存在不耐轴向偏差可变的狭缝宽度的装置，以污染，通过将一固定狭缝与宽狭缝宽度用于低分辨能力和一个连续可变的狭缝宽度的狭缝用于高分辨率的功率在所述相同的中心线。构造 : 当所述解析功率是作为低为1000，一个狭缝刀36所示是打开的完全作为在草图(A)，和一固定狭缝50形成在所述底座是使用用于所述分析。所述狭缝50可以稍微偏移的位置从所述离子光学会聚点，但它不所述低解析功率模式中的物质。在另一方面，当该解析功率是作为高为10000，所述刀36的间隙被由比所述狭缝50的宽度较窄的草图中作为shwon(B)，和所述狭缝形成通过所述刀36是用于所述测量。仅在所述高解析功率模式的情况下，所述狭缝的间隙刀是变窄，使得所述所述狭缝的污染刀用于高分辨率的功率可以被防止。因此，所述宽固定用于低解析功率和所述可变宽度狭缝的狭缝用于高分辨率的功率，提供在所述相同的中心线，需要的功率可以被用于有选择地根据所述解析 |
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